02 · B 2CRD 系列

真空环境下的单腔精密清洗。

2CRD 设备是 Novatec 用于超精密与高精密清洗的标准平台。四槽设计,在真空环境下清洗与干燥,可选旋转或摆动料筐。

2CRD-400-ROT-EVO Einkammer-Präzisionsreinigungsanlage
/ MODELLE 规格

八款标准型号。

型号 料筐尺寸 (宽 × 深 × 高) 运动方式
2CRD-100 300 × 400 × 300 mm 静止
2CRD-100-ROT 220 × 320 × 200 mm 旋转 & 摆动
2CRD-200 400 × 600 × 430 mm 静止
2CRD-200-ROT 320 × 470 × 300 mm 旋转 & 摆动
2CRD-400 500 × 820 × 500 mm 静止
2CRD-400-ROT 470 × 670 × 300 mm 旋转 & 摆动
2CRD-800 600 × 1050 × 630 mm 静止
2CRD-800-ROT 600 × 800 × 400 mm | 2× 608 × 408 × 400 旋转 & 摆动

* -ROT:可选旋转方向的旋转加摆动料筐。

— 工艺

四槽。真空。完全可控。

2CRD 单槽精密清洗设备标配四个槽体:两个清洗槽与两个漂洗槽,以及附加的清水或超纯水漂洗。清洗、漂洗和干燥工序均在真空下或通过压力脉冲工艺进行——洗液和漂洗液也能渗入最细的孔、盲孔、倒扣以及内部几何结构。非常适合复杂几何形状零件的精密与超精密清洗。

每个槽体均配回流绝对过滤器,1号槽还配有油水分离器,最后漂洗槽(4号槽)配有电导率监测——可重复实现符合 VDA 19 与 ISO 16232 的零件洁净度。通过彩色图形显示屏(12 英寸 HMI)操作,具备16个自由可编程清洗程序,每个程序最多16个子步骤。

可选配置:可选转向的旋转或摆动式料筐(-ROT 版本)、真空下压力脉冲(标配)、热风或真空干燥、可选洁净室方案。所有工艺步骤均可组合与重复——包括使用不同化学剂连续运行的两个清洗周期。

/ VIDEO 实际运行

2CRD 实际运行。

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/ ANWENDUNGEN 应用领域

2CRD 优势凸显之处。

/ 01

PVD / CVD / DLC 涂层

可重复的表面预处理,残留低于检测限。可按客户规格验证。

/ 02

医疗器械

植入物、外科器械与组件——生物相容清洗,完整可文档化。

/ 03

精密零件与精密机械

带孔、倒钩和严公差的部件。可按需采用压力变换工艺。

/ 04

金属、陶瓷与塑料

按材料定制护材化学品。水基或改性清洗液。

/ 05

半导体行业

针对晶圆搬运部件、前端硬件和真空腔体部件的低颗粒精密清洗。可提供Class 7洁净室版本。

/ 06

刀具与模具制造

冲头、模具、注塑模具 — 无需拆卸即可深入各种几何形状。

/ GALERIE 图库

设备实例。

/ WEITERE 其他产品系列

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